【“光刻机概念股”苏大维格因误导投资者被深交所启动纪律处分程序】具体的是什么情况呢，跟随小编一起来看看！
经济观察网 记者 李华清在各大券商研报中均被当成“光刻机”概念股的苏大维格（300331.SZ），近日因光刻机相关回复内容踩了雷。
10月12日，深交所向苏大维格下发关注函，关注函中提到，9月14日，苏大维格在深交所互动易平台上回复投资者提问时称“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”，还称“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”。深交所认为，苏大维格在互动易上对投资者提问的回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述，将对苏大维格及相关违规当事人启动纪律处分程序。
事实上，9月14日苏大维格在互动易上称自家光刻机已实现对国内龙头芯片企业的销售并出海后，迅速引发关注，深交所在9月15日就曾对苏大维格下发关注函，详细问询其这一说法，并要求其在9月22日前回复关注函，但10月8日，苏大维格才公告对深交所这一关注函的回复，并在回复中改口称“公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产”。
此光刻机非彼光刻机
苏大维格在2023年度半年报中如此介绍自己：“公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。”
实际上，苏大维格的微纳光学制造技术主要应用在三个领域，一是公共安全和新型印材领域，例如做驾驶证、行驶证的防伪膜，定制化包装材料；二是消费电子材料领域，例如做透明导电膜，可以应用在会议平板、商显、触控电视等中大尺寸终端设备上；三是反光材料，例如做反光布、反光膜等。
苏大维格内部有四个事业群，除开公共安全和新型印材事业群、消费电子新材料事业群、反光材料事业群外，还有一个高端智能装备事业群，苏大维格的装备事业群所涉及的装备主要是光刻设备和微纳光学产品智能装备两类。这两类设备，都是苏大维格自主研发、设计和生产。但苏大维格的光刻设备，跟大众认知里的用于生产芯片的光刻设备，不是一回事。
在10月8日公告的对深交所关注函的回复中，苏大维格介绍，从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机(在运行过程中需要使用掩模板)，包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机(如DUV和EUV)等；以及无掩模光刻机，也叫“直写光刻机”，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备(LDI)等。
苏大维格承认，一般情况下，大众所说的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与自家所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。
“公司自2001年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备等，前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。”苏大维格在对深交所关注函的回复中称。
事实上，苏大维格自主开发、制造的光刻设备，不仅不能应用在芯片的制造中，对外销售的金额也非常小。
2022年，苏大维格开发生产的激光直写光刻设备实现对外销售收入约770.93万元，2023 年上半年实现对外销售收入约2177.27万元，对当期营收的占比分别为0.45%和2.76%，苏大维格生产的光刻设备，主要是自用。
苏大维格还在对深交所关注函的回复中承认，自家生产的“激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。”
纳米压印光刻技术的局限
苏大维格承认证券部门在互动易上说的“光刻机”、“龙头芯片公司”引起部分投资者的误解，那么，它所说的“纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力”，可信吗？在对深交所关注函的回复中，苏大维格对此说法补充提示了风险。
苏大维格介绍，虽然确实有厂商尝试用纳米压印技术来生产集成电路，但目前大多停留在实验或验证阶段，要实现高端芯片的生产还面临模板结构均匀性与分辨率、缺陷率控制、模板寿命、压印胶材料、模具定位和套刻精度等诸多挑战，能否成功应用尚无定论。
苏大维格承认，自身目前在纳米压印领域的应用和研发，除透明导电薄膜外，主要集中在光学材料领域，与集成电路方面的应用无直接关系，虽然已经注意到纳米压印光刻在集成电路领域的应用潜力并在此领域进行尝试，但对比早就在此领域做布局的龙头企业，自身在分辨率等部分关键参数上存在数量级的差距。
“现阶段，纳米压印光刻技术在集成电路领域的产业化应用方面仍存在较多的技术难题和不确定性”，苏大维格提醒投资者注意风险。
深交所称，希望经历纪律处分后，苏大维格能吸取教训，及时整改，杜绝类似问题再次发生。
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